實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)中藥常溫粉碎存在許多問(wèn)題，如不耐熱成份的破壞與分解，近年來(lái)低溫粉碎技術(shù)的應(yīng)用，確保中藥材粉碎產(chǎn)物的內(nèi)在質(zhì)量，例如一些大型產(chǎn)業(yè)公司，如西德Cryo Palla和日本LNrex系列，粒度100-200目，加上粗粉破碎機(jī)，其細(xì)粉量很小。而太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司的研磨分散機(jī)，能粉碎至5-10μm，有輔助的冷卻系統(tǒng)，溫度也不會(huì)過(guò)于高，從而使得中成藥物性及粒徑要求而選用。
實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)經(jīng)過(guò)研磨之后的工序就是提取裝置：罐式間歇提取是主要形式，其設(shè)備容積沖2-6m3多種規(guī)格，有靜態(tài)式進(jìn)行素氏提取，也有在罐內(nèi)加攪拌器，導(dǎo)流管筒進(jìn)行動(dòng)態(tài)提取。連續(xù)提取主要用于處理量大和要求固液比小的提取，設(shè)備有罐組式(4-6只罐)，平轉(zhuǎn)式萃取器。之后進(jìn)行噴霧干燥，干燥時(shí)間僅為數(shù)秒或十秒，能保持原來(lái)的色澤、香味、且溶解度好。同時(shí)也代替了結(jié)晶、干燥、粉碎、過(guò)篩6等多道工序。簡(jiǎn)化了生產(chǎn)工序，目前已廣泛應(yīng)用。
實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)的原理和結(jié)構(gòu)是什么？
研磨分散機(jī)是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒)，所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成：
分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是規(guī)定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)規(guī)定工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出最終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
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更新時(shí)間：2024-08-07 
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